电子特气光刻

报告摘要
◼半导体材料是半导体制造工艺的核心基础，可分为晶圆制造材料和封装材料半导体材料是指电导率介于金属与绝缘体之间的材料，半导体材料的电导率在欧/厘米之间，一般情况下电导率随温度的升高而增大。半导体材料是制作晶体管、集成电路、电力电子器件、光电子器件的重要材料，因此也是半导体制造工艺的核心基础。半导体材料按照工艺的不同，可分为晶圆制造材料和封装材料。其中，晶圆制造材料主要包括硅片、特种气体、掩膜版、光刻胶、光刻胶配套材料、湿电子化学品、靶材、CMP抛光材料等；封装材料主要有封装基板、引线框架、键合丝、包封材料、陶瓷基板、芯片粘接材料等。◼半导体材料市场中，晶圆制造材料占比62.8%，封装材料占比37.2%从半导体材料的市场结构来看，可分为晶圆制造材料和封装材料。根据国际半导体产业协会（SEMI）数据，2021年全球半导体材料市场中，晶圆制造材料市场规模占比为62.8%，封装材料占比为37.2%。在晶圆制造材料中，硅片占据半导体材料总体市场的22.9%，而封装材料中的封装基板占据总体市场的14.9%。◼2024年半导体材料市场规模预计在AI产业驱动、存储芯片补货、晶圆厂扩建的驱动下回暖根据SEMI数据，全球半导体材料市场由2015年的433亿美元增长至2022年的727亿美元，呈现波动上涨态势。其中，晶圆制造材料和封装材料2022年市场规模分别为447亿美元和280亿美元。自2017年起，全球半导体材料市场的增长主要受益于消费电子、5G、汽车电子等下游市场的需求拉动。2023年全球半导体材料市场规模有所下滑，主要由于半导体行业增长整体放缓且晶圆厂产能利用率下降。预计2024年全球半导体材料市场在AI产业快速发展和存储芯片补货需求上涨，以及晶圆厂大规模扩建的驱动下，将呈现逐步回暖的态势。Chapter 1半导体材料行业综述©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：头豹研究院IC工艺流程及对应半导体材料半导体材料是制作晶体管、集成电路、电力电子器件、光电子器件的重要材料，是半导体制造工艺的核心基础。按照工艺的不同，半导体材料可分为晶圆制造材料和封装材料半导体材料：半导体制造工艺的核心基础，可分为晶圆制造材料和封装材料❑半导体材料是指电导率介于金属与绝缘体之间的材料，半导体材料的电导率在欧/厘米之间，一般情况下电导率随温度的升高而增大。半导体材料是制作晶体管、集成电路、电力电子器件、光电子器件的重要材料，因此也是半导体制造工艺的核心基础。❑半导体材料按照工艺的不同，可分为晶圆制造材料和封装材料。其中，晶圆制造材料主要包括硅片、特种气体、掩膜版、光刻胶、光刻胶配套材料、湿电子化学品、靶材、CMP抛光材料等；封装材料主要有封装基板、引线框架、键合丝、包封材料、陶瓷基板、芯片粘接材料等。（）氧化电子特气光刻光刻胶光刻胶辅助材料掩膜版电子特气刻蚀电子特气湿电子化学品离子注入/扩散电子特气清洗液退火电子特气薄膜沉积靶材清洗清洗液金属化靶材电子特气抛光CMP材料量测-（）背面减薄-晶圆切割切割材料贴片封装基板/引线框架引线键合键合丝模塑陶瓷封装材料切筋/成型-成品测试-芯片-硅片制造多晶硅拉单晶磨外圆切片倒角研磨抛光清洗检测硅片IC设计前端设计前仿真后端设计验证后仿真©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，头豹研究院半导体材料分类及占比根据SEMI，2021年全球半导体材料市场中，晶圆制造材料和封装材料市场规模占比分别为62.8%和37.2%。从细分材料来看，前道硅片和后道封装基板分别占据半导体材料市场的22.9%和14.9%半导体材料细分市场：晶圆制造材料占比62.8%，封装材料占比37.2%❑从半导体材料的市场结构来看，可分为晶圆制造材料和封装材料。根据国际半导体产业协会（SEMI）数据，2021年全球半导体材料市场中，晶圆制造材料市场规模占比为62.8%，封装材料占比为37.2%。在晶圆制造材料中，硅片占据半导体材料总体市场的22.9%，而封装材料中的封装基板占据总体市场的14.9%。材料类型主要材料主要用途市场规模占比（2021）细分材料占比（2021）晶圆制造材料硅片晶圆制造基地材料，贯穿芯片制造和封测环节62.8%电子气体起到氧化、还原、除杂等作用，贯穿整个制造环节掩膜版光刻工艺中线路图母版光刻胶配套试剂起到增强光刻胶黏性、剥离光刻胶等作用湿电子化学品清洗、刻蚀等工艺环节CMP材料实现衬底表面平坦化光刻胶将掩膜版图案转移至衬底材料靶材薄膜沉积的元素材料其他制造材料-封装材料封装基板保护芯片、物理支撑、连接芯片与电路板、散热37.2%键合丝连接芯片和引线框架引线框架保护芯片、物理支撑、连接芯片与电路板包封材料保护、散热、绝缘、支撑陶瓷基板应用于大功率、高温等场景芯片粘结材料应用于芯片封装固晶工艺其他封装材料-22.9%8.2%7.9%3.6%4.5%4.0%3.9%1.4%6.5%硅片电子气体掩膜版光刻胶光刻胶配套材料湿电子化学品CMP抛光材料靶材其他制造材料14.9%5.5%5.6%4.8%4.1%1.5%0.7%封装基板引线框架键合丝包封材料陶瓷基板芯片粘接材料其他封装材料©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，头豹研究院全球半导体材料市场规模，2015-2022根据SEMI，2022年全球半导体材料市场规模达727亿美元，同比增长13.1%。2023年市场规模有所下滑是由于全球半导体行业增长放缓且晶圆厂产能利用率下降。预计2024年受益于AI驱动和晶圆厂扩建等因素，市场将有所回暖半导体材料市场规模：2024年市场在AI产业驱动、存储芯片补货、晶圆厂扩建的驱动下回暖全球各国家/地区半导体材料市场规模占比，2021-2022❑根据SEMI数据，全球半导体材料市场由2015年的433亿美元增长至2022年的727亿美元，呈现波动上涨态势。其中，晶圆制造材料和封装材料2022年市场规模分别为447亿美元和280亿美元。自2017年起，全球半导体材料市场的增长主要受益于消费电子、5G、汽车电子等下游市场的需求拉动。2023年全球半导体材料市场规模有所下滑，主要由于半导体行业增长整体放缓且晶圆厂产能利用率下降。预计2024年全球半导体材料市场在AI产业快速发展和存储芯片补货需求上涨，以及晶圆厂大规模扩建的驱动下，将呈现逐步回暖的态势。❑根据SEMI数据，凭借大规模晶圆代工能力和先进封装优势，中国台湾以201亿美元的销售额连续第13年成为世界上最大的半导体材料消费地区，2022年全球占比为27.2%。中国大陆继续保持强劲的增长态势，2022年全球半导体材料销售额占比排名第二，达17.8%。晶圆制造材料封装材料单位：[亿美元]单位：[%]26.5%27.7%18.1%17.8%18.2%17.7%10.9%9.9%8.6%8.6%5.9%6.3%11.8%11.9%0%10%20%30%40%50%60%70%80%90%100%中国台湾中国大陆韩国日本北美欧洲其他地区Chapter 2晶圆制造材料©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，头豹研究院半导体硅片所处产业链位置硅片又称硅晶圆片，是制作半导体的重要材料。按照纯度分类可分为半导体硅片和光伏硅片；按照工序分类分为抛光片、退火片、外延片和SOI片；按照尺寸分类有12英寸/300mm、8英寸/200mm、6英寸/150mm硅片：通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可制成集成电路和各种半导体器件硅片分类高纯度多晶硅半导体级单晶硅光伏级单晶硅冶炼级多晶硅石英砂单晶生长截断滚圆切片倒角磨片化学腐蚀抛光出片单晶生长多晶铸锭截断切方化学腐蚀抛光出片电池片处理半导体硅片光伏硅片直拉法区熔法❑硅片又称硅晶圆片，是制作集成电路的重要材料。通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成集成电路和各种半导体器件。❑硅片按照纯度分类的主要应用领域分为半导体硅片和光伏硅片。在光伏领域同时使用单晶硅及多晶硅，纯度要求为99.9999%左右（4-6N），主要用于制作电池片，被广泛应用于光伏电站、屋顶分布式光伏发电等领域。在半导体领域只使用单晶硅，随着其制程的不断缩小，要求其纯度达到99.999999999%（11N）以上，主要用于制作芯片，被广泛应用于通讯、消费电子、汽车、工业等领域。硅片按照工序分类分为抛光片、退火片、外延片、SOI片，单晶硅锭经过切割、研磨和抛光处理后可得到抛光片。抛光片本身可直接用于制作半导体器件，此外也可作为外延片、SOI硅片的衬底材料；按照尺寸分类为12英寸/300mm、8英寸/200mm、6英寸/150mm，其中200mm和300mm规格的硅片应用范围较为广阔。应用纯度标准硅原料种类表面标准形状和尺寸应用半导体“11个9”单晶硅平整度和光滑度控制在1nm以内圆形，直径150 、200、300mm用于制作芯片，应用于通讯、消费电子、汽车、工业等领域光伏“4-6个9”单晶硅/多晶硅标准低于半导体领域正方形，边长可分为125mm 、150mm ，以及156mm用于制作电池片，应用于光伏电站、屋顶分布式光伏发电领域分类标准产品类别介绍按硅片纯度分类半导体硅片光伏硅片1.半导体硅片制作集成电路的重要材料，通过对硅片进行光刻、离子注入等手段，可以制成集成电路和各种半导体器件。2.光伏硅片用于光伏领域的硅片。在光伏领域，大多使用硅片完成太阳能到电能的转换。按工序分类抛光片退火片外延片SOI片1.抛光片是应用范围最广，用量最大、最基础的产品，其他硅片产品都是基于抛光片的基础做二次加工生产。2.退火片通过把抛光片置于充满氩气或氧气的高温环境退火得到，这样可以大幅减少抛光片表面的氧气含量，从而拥有更好的晶体完整性，可以满足更高的半导体刻蚀需求。3.外延片通过在抛光片表面采用应用气相生长技术，在抛光片表面外延生出单品结构层，这样其表面将比经切割而来的抛光片更加平滑，从而降低表面缺陷。4.SOI片是三明治结构，即最下层是抛光片，中间是掩埋氧化层，顶层是活性层抛光片，可以实现高电绝缘性，从而减小寄生电容和漏电。按尺寸分类12英寸/300mm8英寸/200mm6英寸/150mm1.主要用于高端产品，如CPU、GPU等逻辑芯片和存储芯片，是当前市场的主流尺寸，市占率约为65-70%.2.主要用于中低端产品，如电源管理芯片、MCU、功率半导体等，市占率约为25-27%。3.主要用于中低端产品，如功率半导体，市占率近6-7%。©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，头豹研究院半导体硅片技术演进史根据摩尔定律，半导体硅片尺寸越大，可制造芯片数量就越多，使得单位芯片成本下降。12英寸硅片应用于逻辑芯片（CPU、GPU）、存储芯片、FPGA和ASIC等高端领域，8英寸硅片用于功率器件、电源管理器、MEMS等领域硅片：硅片尺寸朝向12英寸演进为主流趋势，但8英寸硅片依然具有应用优势硅片对应制程节点和应用领域单位：[mm]❑根据摩尔定律，集成电路上的晶体管数量每隔18个月就提升一倍，对应集成电路性能增强一倍，成本下降一半。半导体硅片的直径越大，在单片硅片上可以制造的芯片数量就越多，单位成本亦随之降低。由于大尺寸硅片的利用率更高，硅片尺寸持续向大尺寸发展，由1970年的50mm（2英寸）发展到1980年的100mm（4英寸），到2000年以后主流尺寸向300mm（12英寸）发展。2021年，全球12英寸硅片出货面积占比已达68.47%。❑从应用层面来看，12英寸硅片多用于90nm以下半导体制程，主要应用于逻辑芯片（CPU、GPU）、存储芯片、FPGA和ASIC等高端领域；8英寸硅片通常用于90nm以上半导体制程，主要应用于功率器件、电源管理器、MEMS、显示驱动与指纹识别芯片领域。目前，硅片尺寸朝向12英寸演进为主流趋势，但8英寸硅片依然具有应用优势。2英寸50mm3英寸75mm4英寸100mm125mm6英寸150mm8英寸200mm12英寸300mm尺寸制程应用领域12英寸先进制程10nm/7nm/5/3nm高端智能手机处理器、高性能计算机、显卡16/14nm高端显示卡（GPU）、智能手机处理器、高端存储芯片、计算机处理器、FGPA芯片等20-22nm存储芯片、中低端智能手机处理器、计算机处理器、移动端影像处理器等12英寸成熟制程28-32nmWi-Fi/蓝牙通信芯片、音效处理芯片、存储芯片、FPGA芯片、ASIC芯片等45-65nmDSP处理器、传感器、射频、Wi-Fi /蓝牙/GPS/NFC通信芯片、存储芯片等65-90nm物联网MCU芯片、射频芯片、模拟芯片、功率器件等8英寸90nm-0.13μm汽车MCU芯片、基站通信设备、物联网MCU芯片、射频芯片、模拟芯片、功率器件等0.13μm-0.15μm指纹识别芯片、影像传感器、通信MCU、电源管理芯片、功率器件、LED驱动IC、传感器芯片等0.18μm-0.25μm影像传感器、嵌入式非易失性存储芯片等6英寸0.35μm-0.5μmMOSFET功率器件、IGBT等0.5μm-1.2μmMOSFET功率器件、IGBT等、MEMS、分立器件68.47%24.56%6.97%不同尺寸硅片出货占比，12英寸硅片8英寸硅片6英寸及以下硅片©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，头豹研究院全球半导体硅片市场规模及出货面积，2017-2023根据SEMI，2023年全球半导体硅片市场规模为123亿美元，同比下降10.9%；半导体硅片出货面积同比下降14.3%至126.02亿平方英寸，下降主要受终端市场需求疲软及大量库存处置影响硅片：受终端需求疲软及高库存影响，2023年全球半导体硅片市场规模及出货量出现下滑全球半导体硅片平均价格走势，2011-2022单位：[美元/平方英寸]单位：[亿美元]单位：[亿平方英寸]❑根据SEMI，2023年全球半导体硅片市场规模为123亿美元，同比下降10.9%；半导体硅片出货面积同比下降14.3%至126.02亿平方英寸。全球半导体硅片市场规模及出货量同比下降主要受终端市场需求疲软及大量库存处置影响，同时存储与逻辑芯片产业需求疲软使得12英寸晶圆订单减少，而代工和模拟领域需求不足使得8英寸晶圆出货量下滑。❑半导体硅片的市场价格也随着全球半导体行业景气度波动，单位面积价格在近十年来先降后升，由2011年的1.09美元/平方英寸降至2016年的0.67美元/平方英寸，之后回升至2022年的0.94美元/平方英寸。2023年由于需求疲软使得硅片出货面积出现明显下滑，随着下游芯片制造企业的产能扩充和投产，预计2024年硅片市场将逐步恢复供需紧张局面，半导体硅片价格有望迎来上涨。1.090.960.830.740.680.670.740.90.950.90.980.940.00.20.40.60.81.01.2全球半导体硅片平均售价半导体硅片出货面积全球半导体硅片市场规模©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，头豹研究院全球半导体硅片市场竞争格局，2020全球半导体硅片市场集中度较高，2020年CR7达94.5%。其中，前三名为日本的信越化学、日本盛高和中国台湾的环球晶圆。沪硅产业是中国大陆率先实现300mm半导体硅片规模化生产和销售的企业硅片：全球市场集中度较高，CR7达94.5%，沪硅产业为中国大陆规模最大半导体硅片厂商中国头部半导体硅片厂商旗下工厂及产品单位：[%]❑全球半导体硅片市场集中度较高，2020年CR7达94.5%。其中，前三名为日本的信越化学、日本盛高和中国台湾的环球晶圆，市占率分别为27.5%、21.5%和26.3%（2021年2月，环球晶圆收购世创电子材料50.8%股份）。中国大陆厂商沪硅产业市占率为2.2%，也是唯一进入全球前七的中国大陆厂商。❑沪硅产业是中国大陆规模最大的半导体硅片制造企业之一，也是中国大陆率先实现300mm半导体硅片规模化生产和销售的企业，涵盖300mm抛光片及外延片、200mm及以下抛光片、外延片以及200mm及以下的SOI硅片，率先打破了中国300mm半导体硅片国产化率为0的局面。TCL中环生产4-12英寸化腐片、抛光片、外延片，立昂微生产6-12英寸半导体硅抛光片和外延片，中国台湾厂商合晶科技则生产200mm及以下半导体硅片。中国半导体硅片市场竞争格局，2021单位：[%]公司旗下工厂半导体硅片产品沪硅产业上海新昇新昇晶科新昇晶睿新傲科技工厂300mm硅抛光片、硅外延片、测试片300mm硅片切磨抛300mm单晶硅棒拉晶SOI硅片超硅半导体超硅上海工厂超硅重庆工厂300mm抛光片、外延片、退火片、再生晶圆-中环领先中环天津工厂中环宜兴工厂中环呼和浩特工厂中环徐州工厂150-200mm硅单晶200-300硅单晶单晶硅锭300mm硅晶圆立昂微立昂宁波工厂立昂衢州工厂1立昂衢州工厂2立昂嘉兴工厂100-200mm硅抛光片、100-200mm硅外延片、超厚外延片200mm硅外延片300mm硅抛光片、硅外延片300mm硅抛光片、硅外延片环球晶圆环球昆山工厂单晶硅锭、100-200mm硅晶圆合晶科技合晶台湾工厂合晶郑州厂150-300mm外延片200mm抛光片有研半导体有研北京工厂有研德州工厂1有研德州工厂2300mm硅晶圆150-200mm单晶硅锭、抛光片单晶硅锭、300mm抛光片中晶科技中晶湖州工厂中晶湖州宁工厂中晶西南工厂150-200mm硅抛光片75-200mm硅抛光片75-150mm硅研磨片27.5%26.3%21.5%11.3%5.7%2.2%5.5%信越化学环球晶圆+世创电子材料盛高SK SiltronSoitec沪硅产业其他28%24%17%3%27%沪硅股份中环股份立昂微中晶科技其他©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：华特气体，金宏气体，头豹研究院电子气体产业链上下游电子气体可分为电子特种气体和电子大宗气体，电子特气是工业气体中附加值较高的品种，主要用于集成电路、显示面板、LED照明、太阳能电池等领域，涉及的工艺有硅片制作、氧化、刻蚀、CVD、离子注入、掺杂等电子特气：工业气体中附加值较高的品种，用于集成电路、显示面板、太阳能电池等领域电子气体分类❑广义的“电子气体”指电子工业生产中使用的气体，为重要的工业生产原材料之一。狭义的“电子气体”特指半导体行业所使用的特种气体。工业中把常温常压下呈气态的产品统称为电子气体。电子气体可分为电子特种气体和电子大宗气体，其中电子气体已经成为现代工业不可或缺的基础原料。随着中国经济的快速发展，电子气体作为基础产业，在国民经济中的重要性日益突出。其上游行业是原材料和设备：原材料包含空气、工业废气、基础化学原料等；设备分为气体分离及纯化设备制造、压力容器设备制造等。下游广泛应用于石油、化工、冶金、钢铁、机械、电子、电力、玻璃、陶瓷、建材、食品以及医疗等领域。❑电子特气是工业气体中附加值较高的品种，与传统工业气体的区别在于纯度更高（如高纯气体）或者具有特殊用途（如参与化学反应），主要用于集成电路、显示面板、LED照明、太阳能电池等领域，涉及的工艺主要有硅片制造、氧化、光刻、刻蚀、CVD、离子注入、掺杂、成膜、外延片制造等。类别用途主要产品电子特种气体化学气相沉积（CVD）氨气、氦气、氧化亚氮、TEOS（正硅酸乙酯）、TEB（硼酸三乙酯）、TEPO（磷酸三乙酯）、磷化氢、三氟化氯、二氯硅烷、氟化氮、硅烷、六氟化钨、六氟乙烷、四氯化钛、甲烷等离子注入氟化砷、三氟化磷、磷化氢、三氟化硼、三氯化硼、四氟化硅、六氟化硫、氙气等光刻胶印刷氟气、氦气、氪气、氖气等扩散氢气、三氯氧磷等刻蚀氦气、四氟化碳、八氟环丁烷、八氟环戊烯、三氟甲烷、二氟甲烷、氯气、溴化氢、三氯化硼、六氟化硫、一氧化碳等掺杂含硼、磷、砷等三族及五族原子之气体，如三氯化硼、乙硼烷、三氟化硼、磷化氢、砷化氢等电子大宗气体环境气、保护气、载体氧气、氮气、氩气、二氧化碳等原料空气工业废气基础化学设备气体分离及纯化设备压力容器设备等工业气体大宗气体空分气体合成气体氧气氮气氩气乙炔氨气二氧化碳刻蚀气体CVD气体稀释气体掺杂气体外延气体光刻气体标准气体高纯气体电子特种特种气体传统行业冶金化工机器制造新兴行业集成电路液晶面板太阳能电池光纤电缆医疗健康高端设备其他上游：原材料设备中游：气体下游：应用©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：SEMI，TECHCET，亿渡，头豹研究院全球电子气体市场规模，2017-2025E2022年全球电子特气市场规模为50.01亿美元，预计到2025年增长至60.23亿美元。全球与中国电子特气市场均被空气化工、林德、液化空气和太阳日酸占据主要市场份额电子特气：全球主要市场被欧美、日本企业占据，呈现寡头垄断格局全球及中国电子特气市场格局，2020单位：[亿美元]❑根据TECHCET，2022年全球电子特气市场规模为50.01亿美元，同比增长10.2%。预计到2025年，全球电子特气市场规模将达到60.23亿美元，2022-2025年均增速为6.39%。❑近年来，受益于集成电路、新型显示等产能逐渐向我国转移，推动了我国电子特气行业市场规模快速攀升。根据SEMI，2022年中国电子特气市场规模约为221亿元，预计到2025年达到317亿元。按照下游应用来看，根据亿渡数据，集成电路占比43%，显示面板占比21%，LED占比 13%，光伏占比 6%，合计占比83%。在半导体中，刻蚀用气占比36%，掺杂用气占比34%，外延沉积+光刻+其他用气合计占比30%。2022E2023E2024E2025E电子特种气体电子大宗气体中国电子气体市场规模，2017-2025E单位：[亿元]2022E2023E2024E2025E电子特种气体电子大宗气体❑全球电子特气市场呈现寡头垄断格局。根据亿渡数据，2020年全球电子特气市场主要被德国林德（2018年与美国普莱克斯合并）、美国空气化工、法国液化空气以及日本大阳日酸占据，市占率分别为20.2%、6.6%、15.5%和5.5%，四者合计占据47.7% 。❑2020年，中国电子特气市场同样被空气化工、林德、液化空气和太阳日酸占据，四者合计市占率为85.8%，中国电子特气相关公司等合计占比14.2%。20.2%6.6%15.5%5.5%52.3%全球市场林德空气化工液化空气太阳日酸其他单位：[%]24.8%22.6%22.3%16.1%14.2%中国市场空气化工林德液化空气太阳日酸其他©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：路维光电，《光掩模技术》（田边功），头豹研究院掩膜版按基板材料和应用领域分类掩模版，又称光掩模版、光罩等，是微电子制造过程中的图形转移母版。根据基本材料的不同可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（干版、凸版和菲林等），根据应用领域的不同又可分为平板显示掩膜版和半导体掩膜版掩膜版：基板或晶圆制造过程中图形“底片”转移用的高精密工具掩膜版组成分类及应用产品名称产品简介应用领域石英掩膜版以高纯石英玻璃为基材，具有高透过率、高平坦度、低膨胀系数等优点，通常应用于高精度掩膜版产品主要用于平板显示制造和半导体制造等领域苏打掩膜版以苏打玻璃为基材，相比石英玻璃具有更高的膨胀系数、更低的平坦度，应用于中低精度掩膜版产品主要用于半导体制造、触控制造和电路板制造领域菲林菲林是以感光聚酯PET为基材，应用于低精度掩膜版产品凸版凸版是以紫外固化聚氨酯类树脂为基材，主要用于液晶显示器（LCD）制造过程中定向材料移印主要用于液晶显示制造和电路板制造等领域干版干版是以卤化银等感光乳剂为基材，应用于低精度掩膜版产品产品名称应用领域掩膜版世代划分平板显示掩膜版1.薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）制造，包括 TFT-Array制程和 CF 制程2.有源矩阵有机发光二极管显示器（AMOLED）制造3.扭曲/超扭曲向列型液晶显示器（TN/STN-LCD）制造在平板显示领域，根据掩膜版尺寸的不同，掩膜版可划分为不同的世代，目前主要的世代线为4代及以下、5代、6代、8.5代、8.6代及11代半导体掩膜版1.集成电路（IC）制造与封装2.半导体器件制造，包括分立器件、光电子器件、传感器及微机电（MEMS）等3.LED芯片外延片制造在平板显示行业以外的其它领域，掩膜版无世代线的划分组成名称材料优点缺点用途基板树脂基板树脂质量轻，容易大型化易变性PCB用光掩膜玻璃基板石英玻璃化学性能稳定，热膨胀率小价格高LST用光掩膜，PPD用大型光掩膜低膨胀玻璃热膨胀系数接近硅短波长投射率低LSI用copy光掩膜苏打玻璃价格便宜热膨胀系数大，短波长透射率低低端光掩膜遮光膜硬质机械强度高，可形成微细图形表里面发射率高，多层铬的膜形成工艺复杂手动对位时易操作微加工性能不如铬低端硬质光掩膜氧化铁氧化铝特性优异耐化学品性能差LSI用乳胶价格便宜，成型简单机械强度弱，分辨能力PCB用光掩膜，低端光掩膜❑掩模版，又称光掩模版、光罩等，是微电子制造过程中的图形转移母版，是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，是平板显示、半导体、触控、电路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩膜版的作用是将设计者的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。❑根据基板材料的不同，产品可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（干版、凸版和菲林等）；根据应用领域的不同，又可分为平板显示掩膜版和半导体掩膜版。❑掩膜版主要由基板和遮光膜组成，其中基板又分为树脂基板、玻璃基板，玻璃基板按照材质可分为石英玻璃基板、苏打玻璃基板等，石英玻璃性能稳定、热膨胀率低，主要用于高精度掩膜版制作。遮光膜分为硬质遮光膜和乳胶，硬质遮光膜又分为铬、硅、氧化铁、氧化铝。©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：路维光电，清溢光电，SEMI，头豹研究院掩膜版厂商分类及竞争格局，2019掩膜版制造厂商可分为晶圆厂/IDM厂和第三方独立厂商，第三方独立厂商持续向产业链上游拓展，以降低原材料成本。领先技术主要由海外厂商福尼克斯、DNP和Toppan掌握，中国大陆厂商存在明显技术差距掩膜版：海外头部厂商掌握主流技术，中国大陆厂商技术存在明显差距掩膜版主要厂商产业链覆盖情况❑掩膜版制造厂商分为两种，一种是英特尔、台积电、中芯国际等代工厂拥有自制掩膜板业务，其产能基本为自产自销；另一种是独立于代工厂的第三方掩膜版制造商，如美国福尼克斯、日本DNP、凸版印刷，以及中国大陆的清溢光电、路维光电等，这类厂商主要销售的是成熟制程掩膜版。由于芯片制造设计为晶圆厂的技术机密，因此晶圆制造厂往往自研45nm以下先进制程的掩膜版，而对于45nm以上成熟制程的掩膜版则交给第三方掩膜版制造商进行研发生产。❑目前，掩膜版制造厂商持续向产业链上游拓展，以此降低原材料采购成本和控制终端产品质量。海外厂商如HOYA、LG-IT等企业已具备了基板掩膜/抛光、镀铬及光阻涂布等掩膜版全产业链的生产能力。由于半导体掩膜版技术壁垒较高，领先技术主要由海外厂商福尼克斯、DNP和Toppan掌握。中国大陆厂商的技术水平与海外头部厂商有着明显的差距，其技术主要集中于芯片封测用掩膜版及100nm节点以上的晶圆制造用掩膜版。原材料技术日本HOYA韩国LG-IT日本DNP韩国PKL日本Toppan日本SKE清溢光电路维光电基板掩膜/抛光√√××××××镀铬√√××××××光阻涂布√√√√√√√√类型厂商晶圆厂/IDM厂英特尔、台积电、中芯国际等第三方独立厂商Toppan、Photronics、DNP、台湾光罩、清溢光电、路维光电等65%11%10%8%2% 2%2%全球掩膜版竞争格局，2019晶圆厂/IDM厂ToppanPhotronicsDNP中国台湾光罩HOYA其他31.4%28.6%22.9%5.7%5.7% 5.7%独立第三方掩膜版竞争格局，2019ToppanPhotronicsDNP中国台湾光罩HOYA其他产品技术水平国内掩膜版厂商国际掩膜版厂商IC封装最高水平CD精度：20nmTP精度：30nmCD精度：10nmTP精度：20nm主流水平CD精度：100nmTP精度：100nmCD精度：50nmTP精度：100nmIC器件最高水平CD精度：20nmTP精度：50nmCD精度：10nmTP精度：20nm主流水平CD精度：50-100nmTP精度：150-250nmCD精度：15-50nmTP精度：50-100nm半导体掩膜版技术水平对比©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：南大光电，晶瑞电材，TECHCET，头豹研究院光刻胶分类光刻胶是对光敏感的混合液体，主要是由树脂、光引发剂、溶剂、单体等组成，是光刻工艺中最核心耗材，其性能决定着光刻质量。半导体光刻胶在光刻胶中技术指标要求最高，可分为g线/i线/KrF/ArF/ArFi和EUV光刻胶光刻胶：光刻工艺中的核心耗材，其性能决定着光刻质量全球半导体光刻胶细分市场格局，2021产品类型曝光波长应用制程主要用途半导体光刻胶g 线光刻胶436nm0.5μm以上6英寸i线光刻胶365nm0.5μm-0.35μm6英寸KrF光刻胶248nm250nm-130nm8英寸ArF光刻胶193nm130nm-65nm12英寸ArFi光刻胶193nm65nm-14nm，配合双重及多重显影技术可达到7nm12英寸EUV光刻胶13.5nm7nm以下12英寸光刻胶原料及功能原料主要功能光引发剂光刻胶的关键组分，对光刻胶的感光度、分辨率等起决定性作用光增感剂引发助剂，能够吸收光能并将能量传给光引发剂或本身不吸收光能但协同参与光化学反应提高引发效率的物质光致产酸剂在吸收光能后分子发生光解反应，产生强酸引发反应的物质，用于最尖端的化学增幅光刻胶光刻胶树脂光刻胶中比例最大的部分，构成光刻胶的基本骨架，主要决定曝光后光刻胶的基本性能，包括硬度、柔韧性、附着力、热稳定性、溶解度变化等单体含有可聚合官能团的小分子，又称活性稀释剂，一般参与光固化反应，降低光固化体系黏度，同时调节光固化材料的各种性能助剂根据不同用途添加的颜料、固化剂、分散剂等调节性能的添加剂50%35%15%树脂单体光引发剂及助剂❑光刻胶是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基片上的图形转移介质，被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，是微细加工技术的关键性材料。❑根据下游应用的不同，光刻胶分为PCB光刻胶、平板显示光刻胶、半导体光刻胶，其中半导体光刻胶的技术指标要求最高，半导体光刻胶又可分为g线/i线/KrF/ArF/ArFi和EUV光刻胶，波长依次递减，制程节点越来越先进。光刻胶上游原材料包括树脂、单体、光引发剂等，前三者成本占比分别为50%、35%和15%。光刻胶原料成本占比14.7%34.7%9.9%38.2%2.6%g&i线KrFArFArFiEUV单位：[%]单位：[%]©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：南大光电，晶瑞电材，TECHCET，TOK，Fujifilm，头豹研究院全球半导体光刻胶细分品类市场格局，2020全球半导体光刻胶产能主要集中在日本和美国，海外半导体光刻胶厂商实现了从g/i到EUV光刻胶全品类产品布局。中国厂商主要在g线/i线光刻胶实现一定程度的国产替代，高端光刻胶KrF/ArF/EUV仍依赖进口光刻胶：中国厂商在g/i线光刻胶实现了一定程度的国产替代，KrF/ArF和EUV主要依赖进口各厂商半导体光刻胶布局情况及国产化率，2022厂商国家G线/I线KrFArFEUV东京应化日本量产JSR日本量产住友化学日本量产富士胶片日本量产信越化学日本量产美国杜邦美国量产东进世美肯韩国量产彤程新材（北京科华）中国量产量产预计24H1完成验证并出货-晶瑞电材（瑞红苏州）中国量产量产在研-华懋科技（徐州博康）中国量产量产量产-南大光电中国--已有销售-上海新阳中国量产量产验证-艾森股份中国量产---飞凯材料中国量产---容大感光中国量产---雅克科技中国量产在研在研-星泰克中国量产在研--广微纳中国--在研-2022年国产化率＜20%＜2%＜1%-❑从2020年全球半导体光刻胶整体市场格局来看，东京应化、合成橡胶、杜邦、住友化学、信越化学、富士胶片市占率分别为23%、21%、16%、15%、10%和8%，CR6达到92%。由此可见，全球半导体光刻胶产能主要集中在日本和美国。25.2%19.1%15.7%40.0%全球g/i线光刻胶市场格局TOK杜邦住友化学其他31.4%10.9%21.9%21.0%14.9%全球KrF光刻胶市场格局TOK杜邦信越化学JSR其他15.8%16.8%21.8%25.0%20.7%全球ArF光刻胶市场格局TOK住友化学信越化学JSR其他51.8%48.2%全球EUV光刻胶市场格局东京应化其他❑从半导体光刻胶细分产品来看，量产g/i线光刻胶的中国厂商有晶瑞电材（苏州瑞红）、彤程新材（北京科华）等，国产化率约为10%；KrF光刻胶中国厂商有彤程新材（北京科华）、上海新阳、晶瑞电材（苏州瑞红）、华懋科技（徐州博康），国产化率不足2%；量产ArF光刻胶的中国厂商有华懋科技，国产化率不足1%；中国厂商在EUV光刻胶领域尚无进展。单位：[%]©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：格林达，中国电子材料行业协会，头豹研究院湿电子化学品分类湿电子化学品是半导体、显示面板、光伏等制作过程中不可缺少的关键材料之一。湿电子化学品可分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品，二者2021年市场占比为88.2%和11.8%湿电子化学品：是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料全球湿电子化学品需求量，2020-2025E❑湿电子化学品是微电子、光电子湿法工艺制程中使用的各种液体化工材料，广泛用于半导体、显示面板、光伏、LED等电子元器件细微加工的清洗、光刻、显影、刻蚀、掺杂等工艺环节配套使用，是半导体、显示面板、光伏等制作过程中不可缺少的关键材料之一。从大类来分，一般可划分为通用湿电子化学品和功能湿电子化学品。❑根据中国电子材料行业协会数据，通用湿电子化学品占比88.2%，功能湿电子化学品占比11.8%。❑根据中国电子材料行业协会数据，2021年全球湿电子化学品市场规模为592.57亿元，在集成电路、显示面板、太阳能光伏三个应用市场使用的湿电子化学品总量达到458.3万吨。预计到2025年，全球湿电子化学品整体市场规模将达到784.50亿元；2021年，我国湿电子化学品整体市场规模约158.90亿元，在集成电路、显示面板、太阳能光伏三个应用市场使用的湿电子化学品总量达到213.52万吨。预计2025年中国市场规模增长至269.8亿元，三大应用领域需求总量为369.56万吨。大类小类具体产品通用湿电子化学品酸类氢氟酸、硫酸、磷酸、硝酸、乙酸、乙二酸等碱类氢氧化铵、氢氧化钾、氢氧化钠等有机溶剂类甲醇、乙醇、丙酮、丁酮、乙酸乙酯、甲苯等其他类过氧化氢等功能湿电子化学品复配类化学品显影液、剥离液、清洗液、蚀刻液、稀释液等单位：[万吨]172.0209.0239.0266.0291.0313.0144.7167.2169.7194.9228.6244.061.682.1108.2116.5126.7140.22023E2024E2025E集成电路显示面板光伏等其他中国湿电子化学品需求量，2020-2025E单位：[万吨]2023E2024E2025E集成电路显示面板光伏等其他16.7%16.0%15.3%16.3%8.7%4.8%3.8%3.7%2.8%1.0%3.2%2.7% 2.2% 1.6% 1.2%0.9%过氧化氢氢氟酸硫酸硝酸磷酸盐酸氢氧化钾氨水异丙酮醋酸MEA等极性溶液显影液（半导体用）蚀刻液（半导体用）显影液（面板用玻璃液（半导体用）缓冲刻蚀液（BOE）湿电子化学品细分占比，2021©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：格林达，公司公告，中国电子材料行业协会，头豹研究院湿电子化学品国际标准及中国大陆厂商G4和G5产品高端湿电子化学品主要由海外厂商垄断，而中国厂商主要集中在低端产品。中国使用电子化学品国产化率已达35%，高于其他半导体材料，中国大陆厂商目前部分产品也已达到了G4和G5等级湿电子化学品：国产化率已达35%，中国大陆厂商目前部分产品已达到了G4和G5等级中国大陆湿电子化学品企业产能梳理，截至2023年底SEMI等级G1G2G3G4G5金属杂质/pcb≤1000≤10≤1≤0.1≤0.01控制粒径/μm≤1≤0.5≤0.5≤0.2需双方协商颗粒/（个/ml）≤25≤25≤5需双方协商需双方协商IC线宽/μm＞1.20.8-1.20.2-0.60.09-0.2＜0.09应用分立器件太阳能电池显示面板显示面板集成电路显示面板集成电路集成电路公司G4产品G5产品江化微硝酸、硫酸、氨水、盐酸硫酸、氨水晶瑞电材氟化铵、硝酸、盐酸、氢氟酸氨水、双氧水、硫酸格林达TMAH显影液光刻胶用显影液相关技术指标已达到G5标准要求，正在测试中中巨芯盐酸、氨水、氟化铵、缓冲氧化物刻蚀液氢氟酸、硫酸、硝酸润玛股份硅蚀刻液、清洗液、稀释剂、显影液、双氧水、硝酸、氢氟酸BOE蚀刻液、氨水企业工厂产能（万吨）在建产能（万吨）预计投产时间规划产能（万吨）江化微江阴9.00四川5.8010.002027年6月镇江8.70杭州11.00四川6.00试生产中3.00晶瑞电材21.502.00-上海新阳上海1.903.052026年6月合肥1.70试生产中5.30兴福电子湖北/上海18.406.00-中巨芯衢州9.95潜江19.60-润玛股份7.276.50-达诺尔11.0024.00联士新材料18.6430.56胜华新材3.501.502024年8月博洋股份10.002024年6月福建德尔36.00-怡达化学5.00-裕能化工16.90合计143.56107.3563.86全球湿电子化学品竞争格局，按国家/地区，202032%29%16%12%10% 1%欧美企业日本企业中国台湾企业中国大陆企业韩国企业其他地区❑全球湿电子化学品执行SEMI国际标准，根据指标的不同分为G1-G5共5个等级，等级越高精细度越高。通常情况下，光伏和分立器件集中在G1级，面板集中在G2-G4级，集成电路则集中在G3-G5级，12英寸晶圆制造通常需要G4-G5级。❑根据中国电子材料行业协会，2021年中国集成电路用湿电子化学品国产化率已达35%，高于其他半导体材料。中国大陆厂商目前部分产品也已达到了G4和G5等级。❑高端湿电子化学品（半导体）主要由海外厂商垄断，而中国厂商主要集中在低端产品（光伏、分立器件等）。中国大陆湿电子化学品厂商有40多家，包括江化微、瑞晶电材、上海新阳、中巨芯、格林达等，各厂商优势产品较为单一。©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-55882D NAND3D NAND其他来源：安集科技，SEMI，头豹研究院CMP材料分类及市场份额，2022CMP（化学机械抛光）环节是晶圆制造的关键步骤，可以使晶圆表面达到高度平坦化、低表面粗糙度和低缺陷的要求。CMP材料主要包括抛光垫、抛光液、钻石碟、清洗液等CMP抛光材料：化学机械抛光所使用的材料，包括抛光垫、抛光液、钻石碟、清洗液等逻辑芯片不同工艺制程下CMP工艺步骤❑CMP（化学机械抛光）环节是晶圆制造的关键步骤，可以使晶圆表面达到高度平坦化、低表面粗糙度和低缺陷的要求。CMP材料主要包括抛光垫、抛光液、钻石碟、清洗液等。其中抛光液、抛光垫、调节器、清洗剂市场占比分别为49%、33%、9%、5%和4%。❑根据逻辑芯片不同工艺制程和技术节点的要求，每一片晶圆在生产过程中经历几道至几十道的CMP工艺步骤。随着制造工艺节点的缩小，逻辑芯片和存储芯片对平坦化的要求提高，CMP步骤增加，CMP材料需求量增大。先进制程7nm工艺，CMP步骤为30步，抛光次数为成熟制程90nm工艺的2.5倍，制程节点进步推动CMP抛光垫需求量增长。❑存储芯片从2D NAND到3D NAND的技术变革同样带来了CMP工艺步数的提升，在2DNAND中需要7次CMP步骤，而在3D NAND中达15次、同时，3D NAND技术中对钨材料使用也大幅提升，拉动了钨抛光液的市场需求。材料分类描述抛光垫用于储存和运输抛光液、去除磨屑和维持稳定的抛光环境等。抛光液抛光液是研磨材料和化学添加剂的混合物，在化学机械抛光过程中可使晶圆表面产生一层氧化膜，再由抛光液中的磨粒去除，达到抛光的目的。钻石碟主要用于扫过抛光垫表面提高表面粗糙度，除去用过的浆料，提升抛光效率。清洗液主要用于去除残留在晶圆表面的微尘颗粒、有机物、无机物、金属离子、氧化物等杂质，满足集成电路制造对清洁度的极高要求，对晶圆生产的良率起到了重要的作用。49%33%9%5% 4%抛光液抛光垫调节器清洁剂其他单位：[次]250nm 180nm 130nm 90nm65nm45nm32nm22nm14nm10nm7nm存储芯片技术升级增加CMP工艺步骤单位：[次]©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588来源：Cabot Microelectronics，头豹研究院全球CMP抛光垫市场格局，2019全球抛光垫市场呈现一家独大格局，陶氏杜邦占比达79%，市场基本被美日厂商所垄断。全球抛光液市场集中度较高，CR5达67%，中国厂商安集科技仅占2%CMP抛光材料：陶氏杜邦在抛光垫市场一家独大，卡博特在抛光液市场份额占比超30%全球CMP抛光液市场格局，2019❑抛光垫产品相对单一，产品可分为硬垫和软垫两种，硬垫不同的技术节点对于抛光垫的变化较小。全球抛光垫市场呈现一家独大格局，2019年陶氏杜邦市占率高达79%，其他企业为Cabot（5%）、Thomas West（4%）、Fojibo（2%）、JSR（1%）等，市场基本被美日厂商所垄断。市占率第一的陶氏杜邦可提供全系列的可定制抛光垫产品，最早推出的IC1000抛光垫产品已成为抛光垫行业的测试标准，其20英寸抛光垫占据了85%的市场份额，30英寸的市占率则更高。中国厂商鼎龙股份则是国内唯一全面掌握抛光垫全套核心技术的厂商，率先打破海外厂商垄断，进入国内主流晶圆厂供应链。❑全球抛光液市场集中度较高，2019年CR5达67%。其中，卡博特（Cabot ）占比第一，达36%。其他公司分别为日立（15%）、富士美（11%）、Versum（10%）、陶氏化学（6%）和中国大陆厂商安集科技（2%）。Cabot Microelectronics是全球最大的CMP抛光液供应商，自成立之初即实现钨抛光液、电介质抛光液等机械抛光液的产业化，具备先发优势。Cabot当前CMP抛光液产品覆盖钨、铜、铝等金属抛光液以及介电层抛光液、硅抛光液等。目前，中国厂商安集科技、鼎龙股份、上海新阳、万华化学正加速CMP抛光液产能建设。单位：[%]单位：[%]79%5%4%2% 1%9%DowCabotThomas WestFOJIBOJSR其他36%15%11%10%6%2%20%Cabot MicroelectronicsHitachiFujimiVersumDow安吉微电子其他全球抛光垫厂商的主要产品系列厂商主要产品系列陶氏杜邦IC1000 、Ikonic 、Optivision 、OptivisionPRO、Politex 、Suba 和 VisionpadEntegris（原CMC）NexPlanar®、MEDEA、Epic 、Epic PowerFujiboFP series、FX seires、FXA series、Suede seriesTWIPuRa、WestPad全球抛光液细分产品对应厂商厂商主要产品系列硅抛光液富士美、卡博特、Versum Materials、安集科技、Ace Nanochem、上海新安纳钨抛光液卡博特、Versum Materials、安集科技、KCTech氧化物抛光液卡博特、Versum Materials、Ace Nanochem、Asahi其他金属（铜、铝等）抛光液安集科技、富士美、Versum Materials©2024 LeadLeowww.leadleo.com400-072-5588www.leadleo.com400-072-5588头豹业务合作行企研究多模态搜索引擎及数据库，募投可研、尽调、IRPR等研究咨询对产业及细分行业进行现状梳理和趋势洞察，输出全局观深度研究报告可阅读全部原创报告和百万数据，提供PC及移动端，方便触达平台内容定制报告/词条定制白皮书会员账号对客户竞争优势进行评估和证明，助力企业价值提升及品牌影响力传播依托完善行业研究体系，帮助学生掌握行业研究能力，丰富简历履历市场地位确认招股书引用研究覆盖国民经济19+核心产业，内容可授权引用至上市文件、年报行研训练营报告作者业务咨询广东省深圳市南山区粤海街道华润置地大厦E座4105室深圳办公室邮编：518057上海市静安区南京西1717号会德丰国际广场 2701室上海办公室邮编：200040江苏省南京市栖霞区经济开发区兴智科技园B栋401南京办公室邮编：210046张俊雅行业分析师袁栩聪首席分析师www.leadleo.com400-072-5588©2024 LeadLeo◼方法论 Methodology◆头豹研究院布局中国市场，深入研究19大行业，持续跟踪532个垂直行业的市场变化，已沉淀超过100万行业研究价值数据元素，完成超过1万个独立的研究咨询项目。◆头豹研究院依托中国活跃的经济环境，研究内容覆盖整个行业发展周期，伴随着行业内企业的创立，发展，扩张，到企业上市及上市后的成熟期，头豹各行业研究员积极探索和评估行业中多变的产业模式，企业的商业模式和运营模式，以专业视野解读行业的沿革。◆头豹研究院融合传统与新型的研究方法论，采用自主研发算法，结合行业交叉大数据，通过多元化调研方法，挖掘定量数据背后根因，剖析定性内容背后的逻辑，客观真实地阐述行业现状，前瞻性地预测行业未来发展趋势，在研究院的每一份研究报告中，完整地呈现行业的过去，现在和未来。◆头豹研究院密切关注行业发展最新动向，报告内容及数据会随着行业发展、技术革新、竞争格局变化、政策法规颁布、市场调研深入，保持不断更新与优化。◆头豹研究院秉承匠心研究，砥砺前行的宗旨，以战略发展的视角分析行业，从执行落地的层面阐述观点，为每一位读者提供有深度有价值的研究报告。◼法律声明 Legal Statement◆本报告著作权归头豹所有，未经书面许可，任何机构或个人不得以任何形式翻版、复刻、发表或引用。若征得头豹同意进行引用、刊发的，需在允许的范围内使用，并注明出处为“头豹研究院”，且不得对本报告进行任何有悖原意的引用、删节或修改。◆本报告分析师具有专业研究能力，保证报告数据均来自合法合规渠道，观点产出及数据分析基于分析师对行业的客观理解，本报告不受任何第三方授意或影响。◆本报告所涉及的观点或信息仅供参考，不构成任何证券或基金投资建议。本报告仅在相关法律许可的情况下发放，并仅为提供信息而发放，概不构成任何广告或证券研究报告。在法律许可的情况下，头豹可能会为报告中提及的企业提供或争取提供投融资或咨询等相关服务。◆本报告的部分信息来源于公开资料，头豹对该等信息的准确性、完整性或可靠性不做任何保证。本报告所载的资料、意见及推测仅反映头豹于发布本报告当日的判断，过往报告中的描述不应作为日后的表现依据。在不同时期，头豹可发出与本报告所载资料、意见及推测不一致的报告或文章。头豹均不保证本报告所含信息保持在最新状态。同时，头豹对本报告所含信息可在不发出通知的情形下做出修改，读者应当自行关注相应的更新或修改。任何机构或个人应对其利用本报告的数据、分析、研究、部分或者全部内容所进行的一切活动负责并承担该等活动所导致的任何损失或伤害。