🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响

🔥日本断供光掩膜版（Mask） 时间进展推演影响\n\n🔥一个月：\n1、新产品不能导入。\n2、 产品升级无法流片（Tape-out）。\n3、Mask损坏无法补做。\n4、良率下降后无法重新制作优化版Mask。\n5、研发几乎停滞。\n\n🔥半年：影响会非常严重。\n1、新芯片无法生产。\n2、老Mask老化无法替换。\n3、新工艺无法开发。\n4、整个先进制造能力逐渐下降。\n5、最终可能导致部分产品停产。\n\n为什么Mask断供比很多材料更危险？\n\n因为它具有几个特点：\n1. 制造周期长\n2. 制造门槛极高\n3. 供应商非常少\n4. 无法轻易替代\n\n一个成熟工艺（90nm、65nm）可能需要20~40张Mask。\n 先进工艺（7nm、5nm、3nm）可能需要60~90张甚至100多张Mask，因为采用多重曝光和复杂工艺。\n\n中国四大掩膜版： 路维 、龙图、 清溢 、 冠石 （唯一28量产）\n\n掩膜版原材料： 聚和 （SK供应商 国产供应商）